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离子注入设备

类别: 应用示例 发布日期:2017年12月26日(星期二)

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离子注入是一种通过将离子化物质注入固体来改变固体性质的一种加工方法。
在半导体制造的前端工艺中,通过使用离子注入,可以向晶片中引入适当的杂质以改善半导体元件特性。

广泛用于控制半导体材料的电特性的工艺中,一般由产生的离子束的束量和能量,可以分为中等电流离子注入设备、大电流离子注入设备及高能量离子注入设备。

Moretec的磁性流体被用在离子注入设备中,我们也生产高速旋转磁流体,欢迎来电或邮件咨询。

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